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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心鋼研納克集團(tuán)光譜分析儀器鋼研納克Plasma 3000雙向觀測全譜ICP光譜儀

Plasma 3000雙向觀測全譜ICP光譜儀

產(chǎn)品簡介

Plasma 3000雙向觀測全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

產(chǎn)品廠地:合肥市
更新時間:2024-05-20
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:3222

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品牌NCS/鋼研納克儀器種類臺式
激發(fā)方式火花價格區(qū)間面議
檢測器類電荷耦合元件(CCD)應(yīng)用領(lǐng)域食品,生物產(chǎn)業(yè),石油,地礦,冶金

Plasma 3000雙向觀測全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,實現(xiàn)“全譜直讀”。

功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應(yīng)用工程師加入設(shè)計團(tuán)隊,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

分光系統(tǒng)

徑向觀測與軸向觀測設(shè)計,適應(yīng)亞 ppm 到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用 CaF2 棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計,采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測量。 包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

 光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣 品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測試,均能獲得長期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù),降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動態(tài)線性范圍和低背景,保證準(zhǔn)確的測量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節(jié)約使 用成本。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計,快速定位,精確的位置重現(xiàn)。 實時監(jiān)控儀器運行參數(shù),高性能 CAN 工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。

 進(jìn)樣系統(tǒng)

簡潔的炬管安裝設(shè)計,自動定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。 儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽 / 復(fù)雜基體樣品、等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長期穩(wěn)定。 多通道 12 滾輪蠕動泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

 

檢測器

大面積背照式 CCD 檢測器 , 全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動態(tài)范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。 同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,*像素,單像素面積 24μm X 24μm,三級半導(dǎo)體制冷 , 制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

 

軟件系統(tǒng)

人性化的界面設(shè)計,流暢易懂,簡便易用,針對分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復(fù)雜的方法開發(fā), 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設(shè)置,直觀的測試結(jié)果顯示。

 

安全防護(hù)

*電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險 防紫外觀測窗

分析性能

檢    出    限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

 

光 源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%

 

Plasma 3000雙向觀測全譜ICP光譜儀儀器規(guī)格

尺 寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重 量:約 180kg

光學(xué)系統(tǒng)

分析譜線范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024

單像素面積:24μm x 24μm

 

工作環(huán)境

實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

排 風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時

電 源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA

 

 

 

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